纳米粒子分析

ICP-MS分析纳米粒子可使能分析粒径与浓度更低，因此可对日渐要求精密的半导体制程有更大的帮助，如微小尘粒对显影制程会因为附着于晶圆上造成局部分区图形缺陷；当尘粒中含有金属成分时，经热处理过程后，更使之扩散至晶圆中，对电性造成不良的影响 针对制程使用化学品其内含金属尘粒种类、尺寸大小及数量分布，可有效的解析出在化学品中除了离子态金属污染之外，金属微小纳米粒子对制程良率影响之关键因素

应用范围 : 化学品质量鉴定；半导体业等不良成品分析；制程缺陷分析