高純度特殊氣體/大宗氣體微量不純物分析

半導體製程用特殊氣體或大宗氣體, 如: SiH₄、NF₃、NH₃、CF₄、N₂、H₂、O₂、Ar..等其中微量不純物CO/CO₂/N₂/Ar/H₂/He/O₂/THC(CH₄) 分析，可藉由氣相層析儀搭配脈衝式放電偵測器 (GC-PDHID)、熱導偵測器 (GC-TCD)、火焰離子化偵測器 (GC-FID) 進行檢測分析

應用範圍 : 氣體不純物分析(光電面板製程、LED製程、半導體製程等氣體品質確認)；氣體純度測試；氣體純化效能分析；特殊氣體不純物分析